限制清单新增6项日前，美国商务部在其官方网站发文表示，美国商务部工业安全局（BIS）又对六项新兴技术实施了管控，而其中极紫外线（EUV）掩模的计算光刻技术软件和5nm生产精加工芯片的技术两条直指了对芯片的制造的封锁。目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了37项。罗斯宣称：“关键技术和新兴技术国家战略是保护美国国家安全，确保美国在军事、情报和经济事务中保持技术领先地位的重要战略部署。”“美国商务部已经对30多种新兴技术的出口实施了管控，我们将继续评估和确定未来还有哪些技术需要管控。”最新的商业管制是依据年12月全体大会上达成的协议——《常规军备和两用物品及技术出口管制瓦森纳协议》实施的。制定和实施对新兴技术的多边控制符合《年出口控制改革法案》（ECRA）的要求，这样能够确定哪些新兴和基础性技术对美国国家安全起到至关重要的作用。目前列在商业管制清单上的六项新兴技术为：混合增材制造/计算机数控工具；特定的计算光刻软件；用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术；有限的数字取证分析工具；用于监测电信服务通信的某些软件亚轨道航天器。这是BIS自年通过ECRA法令以来实施的第四套新兴技术管控措施。BIS在此之前曾公布了三份联邦文件通知，对航空航天、生物技术、化学、电子、加密、地理空间图像和海洋领域的31项新兴技术实施了管制，其中大多数是在多边支持下实施的。其中包括因化学/生物和反恐理由而受管制的24种化学武器前体，以及：1、离散微波晶体管2、操作软件的连续性3、Post-quantum密码学4、用作水中听音器的水下传感器5、空中发射平台6、地理空间图像软件（单侧）7、一次性生物栽培室此外，根据ECRA规定，商务部工业安全局已于年8月27日就基础技术鉴定征求公众意见，公众意见征询期将持续到年11月9日，这也就意味着，未来或许还会有更多新兴和关键技术被列入出口管制清单。中国出台出口管制法中国方面，《中华人民共和国出口管制法》已由第十三届全国人民代表大会常务委员会第二十二次会议于年10月17日通过，并从年12月1日起施行，中国管制法实行引发了外国媒体的密切

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